从零开始掌握Skill PCell：定制化版图设计的入门指南

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场景	固定单元维护方式	PCell 维护方式
DRC 规则更新	手动修改每个单元版图	调整参数化代码逻辑，所有实例自动更新
工艺迁移(如 65nm→28nm)	重新绘制所有层次	修改工艺参数映射表
尺寸变更	需要人工重新布局	输入新参数值即时生成
设计复用	复制粘贴导致版本混乱	统一调用保证一致性

defun 定义函数

// 定义生成矩形的函数
defun(createRect (@key (layer "M1") (width 1.0) (height 1.0))
  cv = geGetEditCellView()
  rect = cv~>createRectangle(?layer list(layer "drawing")
    ?bBox list(0:0 width:height)
  )
)

let 局部变量

let((x y result)  // 声明局部变量
  x = 5
  y = 10
  result = x * y   // 计算结果
  println(result)  // 输出 50
)

prog 流程控制

prog((total cnt)
  total = 0
  for(cnt 1 10
    total = total + cnt
  )
  printf("Sum=%d" total)  // 输出 1 到 10 的和
)

unless(width > 0.1 && width < 10.0
  error("Width must be 0.1-10um")
)

// 根据工艺节点设置间距
let((minSpace)
  minSpace = cond((techNode == 28) 0.05
    (techNode == 40) 0.08
    (techNode == 65) 0.12
    t 0.15  // 默认值
  )
  polySpace = fingers * minSpace
)

// 生成多指栅极结构
for(i 1 fingers
  xOffset = (i-1) * (gateLength + polySpace)
  cv~>createPath(?layer list("PO" "drawing")
    ?width gateWidth
    ?points list(xOffset:0 xOffset:totalWidth)
  )
)

// 生成有源区
cv~>createRectangle(?layer list("DIFF" "drawing")
  ?bBox list(-enc:0 totalLength+enc:totalWidth)
)